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Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3

ISSN 1932-5150EISSN 2708-8340中科院 3 区新锐分区 3 区WoS SCIE

Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3：最新影响因子(IF)为 2.3（JCR 2025），中科院大类 物理与天体物理 3 区，新锐分区 3 区（2026），出版商为 SPIE，ISSN 1932-5150。提供该期刊的中科院分区、新锐分区、JCR 影响因子、学科类别、出版商信息。

中科院分区（大类）
3 区
物理与天体物理 · 排名 152/406
影响因子（JCR 2025）
2.3▲ 0.5
2023 年
影响因子 1.5
23
2024 年
影响因子 1.8
24
2025 年
影响因子 2.3
25
JCR 学科（4 个）
Q3最好分位
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC

分区详情

分区查询工具
新锐期刊分区表（2026）
大类学科小类学科Top综述
物理与天体物理3 区
  • 工程：电子与电气4 区
    ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
  • 纳米科技4 区
    NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
  • 材料科学：综合4 区
    MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
  • 光学4 区
    OPTICS
否否

新锐分区由原中科院分区表团队于 2026 年推出，与中科院分区表口径不同，仅供参考。

中科院期刊分区表（2025 升级版）
大类学科小类学科Top综述
物理与天体物理3 区排名 152/406
  • 光学53/1193 区
    OPTICS
  • 工程：电子与电气170/3524 区
    ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
  • 材料科学：综合212/4364 区
    MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
  • 纳米科技74/1394 区
    NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
否否
历年分区（中科院）
年份大类学科分区Top
2025物理与天体物理3 区否
物理与天体物理2 区否
工程技术4 区否

分区以中科院分区表升级版口径为准；Top 为当年标注结果。点击年份行可查看当年全部小类分区。

JCR 学科类别与分位（2025）

学科分区排名
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONICQ3221/369
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYQ3336/472
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGYQ4116/148
OPTICSQ368/129

影响力指标

影响因子历年变化（JCR）点击年份查看当年学科分位
年份影响因子发文量
2.3—
1.8—
1.5—
学术计量
累计发文
19 篇
累计被引
15 次
h-index
2
近两年篇均被引
0
历年发文量2013–2026，最新年份尚未完整

数据来源：期刊官方报告与公开学术资料整理。 「近两年篇均被引」为公开计量数据口径，非官方影响因子。

期刊信息

出版商SPIE · 美国
学科方向Electrical and Electronic EngineeringBiomedical EngineeringRadiation

数据来源：期刊官方报告与公开学术资料整理。

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